改革開(kāi)放以來(lái)，我國IC產(chǎn)業(yè)越來(lái)越受到重視，國家制定并實(shí)施了“七五”、“八五”、“九五”、“十五”計劃并組織實(shí)施了“908”、 “909”IC重大工程，先后建起多條國有、中外合資、外商獨資IC生產(chǎn)線(xiàn)，這些生產(chǎn)線(xiàn)的興建和發(fā)展，使我國IC設備得以迅速發(fā)展。

目前我國半導體專(zhuān)用設備的生產(chǎn)研制單位共有 60多家，其中涉足集成電路生產(chǎn)設備的廠(chǎng)、所約有20～30家，自主研制的集成電路專(zhuān)用設備達到上百個(gè)品種。半導體設備業(yè)前道工序中的擴散爐、快速熱處理設備、清洗機、勻膠顯影設備和部分光刻設備等；后道工序中的測試探針、劃片機、印字機、引線(xiàn)框架成型機、塑封機、部分模具；材料制備中的單晶爐、切片機、研磨拋光機、部分凈化設備和試驗設備已經(jīng)日趨成熟。

    在新品研發(fā)方面，中國電子科技集團第四十五研究所以8英寸硅片加工的自動(dòng)切片機、自動(dòng)劃片機、自動(dòng)探針測試臺、6英寸雙面光刻機作為重點(diǎn)項目進(jìn)行突破，并進(jìn)行0.25mm及其更高分辨率光刻機研發(fā)和0.5 mm光刻機產(chǎn)業(yè)化推進(jìn)，同時(shí)正在實(shí)施其后封裝設備產(chǎn)業(yè)化基地；中科院光電所開(kāi)發(fā)的用于MEMS等領(lǐng)域的厚膠曝光機已形成系列產(chǎn)品，700廠(chǎng)也推出了平坦化MRIE設備、超凈工作臺、質(zhì)量流量控制器等新產(chǎn)品，蘇凈集團的“九五”國家重點(diǎn)科技攻關(guān)項目“亞微米級集成電路生產(chǎn)微環(huán)境系統”通過(guò)了國家驗收，西北機器廠(chǎng)開(kāi)發(fā)的6英寸勻膠顯影系統已在展覽會(huì )亮相，南光機器廠(chǎng)和北京儀器廠(chǎng)PVD和電子束蒸發(fā)方面也推出了新品，蘭新通信設備集團公司研制的6英寸硅片研磨機、拋光機和倒角機等新產(chǎn)品已投放市場(chǎng)，銅陵三佳公司研制的MGP塑封模，適應了集成電路的封裝要求，廣州愛(ài)斯佩克公司生產(chǎn)的高低溫測試設備近年來(lái)也取得了良好的業(yè)績(jì)。

    2001年我國的半導體設備銷(xiāo)售額為2億人民幣，國內市場(chǎng)占有率約為3%。據悉2002年國內半導體設備銷(xiāo)售額增長(cháng)1倍以上，約5億元左右，國內市場(chǎng)占有率約5%，其中150毫米（6英寸）及其以下的半導體材料加工設備和后封裝設備是主要增長(cháng)點(diǎn)。據設備工業(yè)協(xié)會(huì )預測，2003年國內半導體設備市場(chǎng)將增長(cháng)40%以上。